2008年以來，無錫尚積半導(dǎo)體科技股份有限公司團(tuán)隊陸續(xù)開發(fā)了氧化釩薄膜沉積、吸氣薄膜沉積等核心技術(shù)，打破了國外公司壟斷地位，國內(nèi)市占率>80%。2020年初，應(yīng)國內(nèi)某行業(yè)頭部公司的邀請，自主設(shè)計了國產(chǎn)的PVD設(shè)備。無錫尚積專注于國產(chǎn)化率較低的薄膜沉積和刻蝕工藝,繼續(xù)打破壟斷，為用戶提供Turnkey Solution，追求創(chuàng)新與卓越。經(jīng)營地址是無錫市新吳區(qū)長江南路35-312號廠房。核心團(tuán)隊為中國早期半導(dǎo)體技術(shù)從業(yè)者，來自于業(yè)內(nèi)有名的半導(dǎo)體制造公司和國外半導(dǎo)體設(shè)備制造商，具備創(chuàng)始人超二十年、其他核心人員平均超十年的半導(dǎo)體行業(yè)從業(yè)經(jīng)驗。